《美国化学会志》近期发表的一项研究发现，人工合成的DNA碱基比天然碱基对光线更为敏感。2014年创建的人工合成DNA碱基被用来扩增遗传密码，研究发现其对光敏感，当暴露于特定波长的光时会产生活性氧自由基（reactive oxygen species, ROS）。

紫外线会损害天然DNA碱基，但细胞会通过固有的修复机制来解决此问题。美国俄亥俄州凯斯西储大学(克利夫兰) 的Carlos Crespo-Hernández及其同事发现，两个在实验室中合成的DNA碱基（d5SICS和dNaM，它们被用来设计合成细菌）当暴露于近可见波长的光线时产生了比最高活性的天然碱基（胸腺嘧啶）多了高达100倍活性的ROS。光线暴露的条件下，在含d5SICS环境中生长的癌细胞系会产生更高水平的ROS，并且细胞增殖得以降低。

研究者表示，人工合成的DNA碱基可以促使、加剧细胞发生光化学损伤。 （作者：卜燕)

参考文献：Journal of the American Chemical Society 2016;138: 11457-11460